中微5nm蝕刻機成了，臺積電已驗收，純國產(chǎn)純自主研發(fā) 

        眾所周知，半導(dǎo)體工藝是一項集大成的高精密科技，制成越高工藝也就越高，從65nm到32nm再到如今的10nm，因為制成難度問題淘汰掉了很多半導(dǎo)體企業(yè)，還在為更高制成研發(fā)的半導(dǎo)體企業(yè)也很少。

        近日，國產(chǎn)中微傳來喜訊，旗下5nm等離子體蝕刻機通過了臺積電的驗證，未來臺積電生產(chǎn)5nm制成將會用到由中微提供的蝕刻機，該蝕刻機由國產(chǎn)中微完全自主研發(fā)，可喜可賀。

1、中微成立于2004年，在半導(dǎo)體行業(yè)小有名氣

        中微在半導(dǎo)體行業(yè)算是小有名氣了，該公司有多位留美歸國博士所創(chuàng)立，成立于2004年11月，總投資5億元，對于此次成功研發(fā)出5nm蝕刻機，中微半導(dǎo)體CEO尹志堯表示：在米粒上刻字的微雕技藝上，一般能刻200個字已經(jīng)是極限，而我們的等離子刻蝕機在芯片上的加工工藝，相當于可以在米粒上刻10億個字的水平。

2、5nm蝕刻機成了，不代表可以量產(chǎn)5nm芯片

        不過需要注意的是，中微搞定了5nm蝕刻機并不代表臺積電就可以直接用來生產(chǎn)5nm制成了，因為蝕刻機只是眾多工藝中的一個環(huán)節(jié)而已，而重要的光刻機，臺積電仍然需要從荷蘭ASML進口。

3、國產(chǎn)的自主光刻機僅可生產(chǎn)90nm工藝

        所以說，我國半導(dǎo)體行業(yè)和世界大廠之間的差距還是很大的，尤其是重要的光刻機，國內(nèi)做光刻機好的是上海微電子，但可惜微電子也僅能生產(chǎn)90nm，但令我們欣慰的是，國內(nèi)有很多像中微這樣的半導(dǎo)體企業(yè)在不斷努力，差距也在不斷縮小。

        對于像中微這樣的企業(yè)我們應(yīng)該給予鼓勵和支持，完全的自主研發(fā)，不采用任何架構(gòu)，希望中微再接再厲，可以在半導(dǎo)體行業(yè)占據(jù)一席之地。